石墨制品石墨坩堝氧化溫度及原因
一、為什么石墨制品石墨坩堝在真空環境中會氧化
石墨制品石墨坩堝是由碳素石墨制成的,具有高溫穩定性和抗腐蝕性的特色,被廣泛地應用于各種高溫實驗中。但在真空環境下,由于石墨坩堝內部的氧氣和水蒸氣被排出,失去了保護,容易發生氧化反應,構成CO和CO2等氧化物,石墨坩堝表面色彩轉黑,甚至呈現明顯的坑洞和裂紋。導致實驗效果的準確性下降。
二、石墨坩堝氧化溫度
一般來說,石墨制品石墨坩堝的氧化溫度范圍在600℃-650℃左右。如果在這個溫度范圍內運用石墨坩堝,應該嚴峻把控實驗時間,防止過久的高溫顯露。一起,能夠通過下降氧分壓、增加保護氣氛等方法來減緩石墨坩堝的氧化速度。
三、怎樣推遲石墨制品石墨坩堝的氧化速度
1.操控實驗時間:在高溫環境下,石墨制品石墨坩堝的氧化速度隨時間的增加而加快。因而,應盡量縮短高溫下的實驗時間。
2.下降氧分壓:能夠通過在石墨制品石墨坩堝內參加必定量的還原劑,如純碳或硅粉等,下降氧分壓,減緩氧化速度。
3.增加保護氣氛:在真空環境下運用石墨制品石墨坩堝時,能夠通過運用惰性氣體來構成保護氣氛,如氬氣、氮氣等,防止石墨坩堝與氧氣觸摸然后氧化。
四、怎樣減少石墨坩堝氧化對實驗效果的影響
1.預處理:運用前先進行預處理,將石墨制品石墨坩堝加熱到必定溫度,并注入惰性氣體中進行處理,以利于保護石墨坩堝的表面。
2.及時替換石墨坩堝:當石墨制品石墨坩堝表面呈現氧化反應時,應及時替換石墨坩堝,避免影響實驗效果的準確性。
總歸,在實驗室中運用石墨制品石墨坩堝時,應留意它的氧化溫度和氧化速度,采納相應的辦法進行保護和推遲氧化速度,避免影響實驗效果的準確性。
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